高功率器件理想材料碳化硅(SiC)
1308碳化硅(SiC)是高功率器件理想材料 硅是半导体行业第一代基础材料,目前全球95%以上的集成电路元器件是以硅为衬底制造的。目前,随着电动汽车、5G等应用的发展,高功率、耐高压、高频率器件需求快速增长。 ...
查看全文全站搜索
碳化硅(SiC)是高功率器件理想材料 硅是半导体行业第一代基础材料,目前全球95%以上的集成电路元器件是以硅为衬底制造的。目前,随着电动汽车、5G等应用的发展,高功率、耐高压、高频率器件需求快速增长。 ...
查看全文第三代半导体,由于在物理结构上具有能级禁带宽的特点,又称为宽禁带半导体,主要是以氮化镓和碳化硅为代表,其在半导体性能特征上与第一代的硅、第二代的砷化镓有所区别,使得其能够具备高禁带宽度、...
查看全文碳化硅芯片怎么制造? 宽禁带半导体材料开启新时代 以碳化硅和氮化镓为代表的宽禁带半导体材料,突破原有半导体材料在大功率、高频、高速、高温环境下的性能限制,在5G通信、物联网、新能源、国防尖端武器装备等...
查看全文碳化硅MOS优点:高频高效,高耐压,高可靠性。 可以实现节能降耗,小体积,低重量,高功率密度。 相对应于传统MOSFET以及IGBT有以下优点: 1:高工作频率:传统MOSFET工作频率在60KHZ左右,而碳化硅MOSFE...
查看全文二十一世纪以来,以氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)、氧化锌(ZnO)、金刚石为四大代表的第三代半导体材料开始初露头角。 特点 第三代半导体材料具有更宽的禁带宽度、更高的导热率、更高的抗辐射能力、更大的电子...
查看全文上世纪四五十年代,以硅(Si)和锗(Ge)为代表的第一代半导体材料奠定了微电子产业的基础。经过几十年的发展,硅材料的制备与工艺日臻完美,Si基器件的设计和开发也经过了多次迭代和优化,正在逐渐接近硅材料的极限...
查看全文下面我们通过实际测试数据来直观感受一下SiC 的优势。 1)开关损耗 图2是1200V HighSpeed3 IGBT(IGW40N120H3) 与CoolSiC™ MOSFET (IMW120R045M1) 在同一平台下进行开关损耗的对比测试结果。母线电压800V, 驱动电...
查看全文碳化硅(SiC)是一种广泛使用的老牌工业材料,1893年已经开始大规模生产了,至今一直在使用。不过自然界中很难找到碳化硅,在陨石中的矿物莫桑石会含有碳化硅。由于碳化硅的硬度很高,碳化硅的主要用途是...
查看全文爱仕特碳化硅芯片特性介绍: SiC MOS芯片 全系列采用6英寸晶圆量产 最高耐压3300V 最低内阻15毫欧 高雪崩耐量,100% UIS测试 满足车规级要求:按照AEC-Q101标准测试 1.sic 4 寸晶圆 2.sic...
查看全文