SiC MOS因其耐高压、高频和高温度特性,在新能源、轨道交通等领域广泛应用。然而,其较小的芯片面积和高电流密度导致短路耐受能力较弱,对保护机制和可靠性优化提出了更高要求。现在结合短路特性、检测方法、保护策略及失效模式,系统分析SiC MOS的短路保护机制,并提出可靠性优化方案。
一、SiC MOS的短路类型与机理
1. 短路故障分类
SiC MOSFET的短路故障可分为两类:a)硬开关故障(HSF):在负载已短路的情况下开通器件引发的故障,电流上升速率极快(di/dt可达10^7 A/s),危害性极大。b)负载故障(FUL):器件完全导通后负载突然短路,电流因回路电感存在而缓慢上升。
2. 短路发生原因
电气应力:过电压导致绝缘层击穿,过电流引发内部结构损坏。
热应力:高温引发材料热膨胀或电子迁移,加剧栅极氧化层退化。
设计缺陷:如电极间隙不当或散热不足。
二、短路检测方法与保护机制
1. 短路检测技术
(1)电流检测法
电阻检测:串入采样电阻,通过电压阈值判断短路。优点为简单,但损耗大且动态响应慢。
电流互感器:适用于交流场景,需高带宽设计,成本较高。
(2)电压检测法
去饱和检测:通过监测漏源极电压(Vds)判断短路。正常导通时Vds较低,短路时Vds骤升触发保护。需设置消隐时间避免误触发。
寄生电感检测:利用源极寄生电感(Lss)的感应电压(Vss∝di/dt)检测电流变化,响应速度快但易受噪声干扰。
(3)栅极电压检测
HSF发生时栅极电荷(Qg)显著减少,通过监测栅极电压(Vgs)变化判断故障,但易受密勒电容影响。
2. 保护电路设计
(1)基于比较器的去饱和保护电路
当Vds超过阈值时,比较器输出高电平,触发关断信号。电路需集成消隐电容(Cblk)以屏蔽开通瞬态干扰。去饱和检测电路
(2)自适应检测电路
新型电路,同时监测漏源极电压(Vds)和栅源极电压(Vgs),结合逻辑处理单元提高检测精度。例如,Vgs异常升高与Vds骤升的组合信号可更可靠判断HSF。
三、短路失效模式与保护时间窗口
1. 失效模式
栅源短路失效:由栅极氧化层退化引发,表现为栅源电压(Vgs)逐渐降低,伴随泄漏电流增加。薄氧化层(<3nm)的直接隧穿效应是主因。
热崩失效:短路能量(E)超过临界值(Ec)时,漏极泄漏电流(Ileak)触发正反馈温升,最终导致器件炸毁。
2. 保护时间要求
SiC MOSFET的短路耐受时间(t_SC)通常为2~10μs。保护电路需在t_SC内完成检测与关断,否则可能引发热崩失效。
四、可靠性优化策略
1. 器件级优化
材料与工艺改进:采用更厚的栅氧化层(>3nm)减少隧穿电流,优化SiC-SiO₂界面质量以降低漏电。
结构设计:集成开尔文源极(Kelvin Source)减少寄生电感影响,提升检测精度。
2. 系统级优化
动态关断策略:1、降栅压关断:先缓降Vgs限制电流,再负压关断,降低关断过电压;
2、多级栅电阻:关断初期采用小电阻加速响应,后期切换大电阻抑制电压尖峰。
热管理:优化散热布局,采用温度传感器实时监控结温,防止热逸溃。
3. 检测算法增强
多参数融合:结合Vds、Vgs和温度信号,通过逻辑单元实现冗余判断,减少误触发。
五、原理图案例分析
正常导通:SiC MOS导通时,Vds较低,二极管D正向导通,电容C电压被钳位至低电平。
短路触发:Vds骤升使D反向截止,C通过Rblk充电,电压超过阈值(Vref)后比较器翻转,触发关断信号。
消隐时间设计:Cblk和Rblk的参数需匹配开关瞬态,避免误动作。
六、总结
SiC MOSFET的短路保护需综合考虑快速检测、精准关断和热管理。未来趋势包括:a)集成化保护芯片:将检测与驱动电路集成,缩短响应时间;b)AI预测算法:基于历史数据预测短路风险,实现主动保护。通过器件、电路和系统多层级优化,可显著提升SiC MOSFET的可靠性与应用寿命。
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