如何为SiC MOSFET选择合适的栅极驱动器

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碳化硅(SiC)MOSFET在功率半导体行业取得重大进展,得益于其一系列优于硅基开关的优势,包括更快的开关速度、更高的效率、更高的工作电压和更高的温度,这也就带来更小、更轻的设计。这些优势让其在一系列汽车和工业应用中寻找到发展空间。不过,碳化硅等宽禁带(WBG)器件也带来了不少设计挑战,如电磁干扰(EMI)、过热和过压等问题,我们可以通过选择合适的栅极驱动器来予以解决。

栅极驱动器用于驱动功率器件,因此它是解决功率问题的关键组成部分。要确保碳化硅的优化设计,其中一个方法就是预先谨慎选择栅极驱动器。同时,还需要仔细审视设计的关键要求,包括效率、密度,当然还有成本。因为根据应用要求,总会需要做出一些权衡折衷。

尽管碳化硅具有一些固有的优势,但其价格却仍然阻碍其广泛的应用。根据电源IC制造商的说法,除非设计人员考虑解决方案的总成本,否则,如果仅在器件层面比较碳化硅与硅这两者,那么前者无疑更加昂贵而难以证明其价值。

我们首先讨论下SiC相对于硅MOSFET或IGBT有哪些应用上的不同、优势以及权衡。SiC FET较高的击穿电压使其具有较低的导通电阻;其较高的饱和速度则可以实现更快的开关速度;其3倍高的带隙能量则可以实现更高的结温,从而改善冷却;其3倍高的热导率则表明其可以实现更高的功率密度(图1)。

业界一致认为,低压硅MOSFET和GaN适用于低于700V的电压范围,而SiC则更适合在高于700V的范围内发挥作用,二者在较小的功率范围有少许重叠。

碳化硅主要用于取代600V和3.3kW以上的硅IGBT类应用,而在大约11kW时更是如此,此时对SiC来说更像是一个甜蜜点,也即它具有高电压工作、低开关损耗和更高开关频率的功率级等优势,美国微芯科技(Microchip)分立及电源管理数字栅极驱动器(AgileSwitch)产品线总监Rob Weber指出。

这些特性使采用更小的滤波器和无源元件成为可能,而且它还降低了冷却需求。他表示:“我们谈论的是相对于IGBT的系统级优势,它最终将带来尺寸、成本和重量的降低。”

“从损耗的角度来看,例如,在30kHz的开关频率下,损耗最高可降低70%。这是由于碳化硅在击穿电场、电子饱和速度、带隙能量和热导率方面具有不同的特性。”Weber表示。

图1:SiC与Si和IGBT对比。(图片来源:Microchip)

工程师关注的基准是效率,这决定了改善的程度,但对碳化硅而言,越来越被关注到的是其优于IGBT的系统级优势,Weber表示。

“碳化硅可以在更高的开关频率下工作,这样,工程师就可以在最接近的功率级周围使用更小的外部元器件,例如滤波器,也即又大又重的磁性器件。再就是,由于开关损耗较低,碳化硅可以在更高的温度下工作或更不容易发热;还可以用风冷系统代替液冷系统,同时缩小散热器的尺寸。”他解释到。

他表示,这种元器件尺寸和重量的减少,可以带来更低的成本,也即碳化硅的优势远不止提高效率。

然而,就器件之间的价格比较而言,碳化硅仍然要比传统的硅基IGBT贵。“所有制造商的碳化硅模块成本都更高,但如果去审视整个系统的话,就会发现碳化硅系统的成本更低。”Weber指出。

在Weber分享的一个案例中,某客户采用SiC MOSFET后系统成本降低了6%。

一旦设计人员决定改用碳化硅,那么就还需要进行一些权衡。功率半导体制造商承认,碳化硅会带来一些“间接效应”,如噪声、EMI和过压等,这些问题必须予以解决。

“让器件更快地开关,也就可能会产生更多的噪声,这会带来EMI问题。”Weber表示,“此外,尽管SiC在更高的电压下表现更出色,但它在短路条件下远不如IGBT鲁棒,而且电压会发生变化,因此会发生过压情况,这就会导致一些设计人员采用额定电压更高的SiC器件,以便更好地控制过压和过热情况。”

这就是栅极驱动器的选择发挥重要作用的地方。碳化硅对电源电压、快速短路保护和高dv/dt抗扰度等特性都有独特的要求。

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