摘 要:SiCMOSFET和SiIGBT并联构成的Si/SiC混合器件(Si/SiCHyS)有效结合了SiIGBT的大载流能力、低成本与SiCMOSFET的高频、低开关损耗优势,突破了单一器件的性能桎梏。然而,非平稳工况下Si/SiCHyS内部结温波动分布不均衡,存在SiCMOSFET老化过速的问题。目前,针对Si/SiCHyS的热管理策略研究鲜有报道,而变开关频率作为单一器件中应用最为广泛的结温调节方法,难以调节Si/SiCHyS内部的结温差异,导致SiIGBT热容量利用率较低。考虑到SiC导通比例可利用SiIGBT的结温调节空间来降低SiCMOSFET的热应力,从多层级热管理视角出发,提出一种基于SiC导通比例Dsic与开关频率f协同调控的Si/SiCHyS综合热管理方法。所提热管理方法根据设定的结温波动阈值,对开关频率和SiC导通比例的目标参数域进行全面刻画,并实现f-Dsic参数的最短调节路径规划,最终将SiCMOSFET和SiIGBT结温波动平滑至同一阈值以内。实验结果表明,相较于变开关频率方法,采用所提综合热管理方法的Si/SiCHyS最大结温波动降低了24.31%,且任一负载波动下SiCMOSFET和SiIGBT的结温波动均被平滑至同一阈值以内,显著提高了Si/SiCHyS的整体使用寿命。























































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