这篇文章聊聊沟槽栅功率MOSFET降低栅电荷的各种方案,

如上,沟槽栅功率MOSFET基本结构,
N+和P-body被近似矩形的沟槽隔开,槽中主要填充物为深蓝色的Gate,Gate两侧及底部是荧绿色的栅介质(SiO2),
从开关特性的角度分析,这种结构的关键问题在于——栅沟槽底部完全裸露于外延层,栅漏交叠面积较大,导致CGD较高、QGD较大。
在高频开关应用中(尤其是工作频率超过1MHz的转换器),栅电荷较大的沟槽栅功率MOSFET面临诸多问题,包括:
1、栅极驱动产生的大功率损耗(驱动损耗),
2、需要的驱动电流较高,瞬态响应较差,
3、占空比存在较大限制,
4、需要大型栅极驱动器缓冲器。
5、高dV/dt效应,影响有效栅极电压,引发误导通等状况。
接下来,看看前人为降低栅电荷,鼓捣出了哪些好玩的东西。

如上,降低栅电荷的三种方案,
(a)是TBOX结构,特点是Gate下方的栅氧化层做得更厚,且栅沟槽下方进行P型注入,
前者可以降低栅氧化层电容,后者则通过设置接源极的P区,将相当一部分栅漏电容转换成栅源电容,进一步降低CGD,
这种方案的缺点在于工艺一致性,沟槽深度、底部氧化层厚度的波动都会影响CGD。
为降低工艺波动对器件性能产生的影响,前人鼓捣出图(b)所示的结构,原文称之为W形栅极,
俺总觉得这种栅极更像是一颗牙齿,且称之为牙状栅极,
即,对沟槽底部的多晶硅进行局部氧化,形成厚氧化层,
如此形成的厚氧化层呈如下特征:中心区域厚度较大、边缘区域厚度较小,
相比CVD工艺形成TBOX,这种多晶硅氧化的方式工艺稳定性更佳,另外中心较厚、两侧较薄的结构,可减小沟槽深度变化对CGD的影响,
此外,对两侧的Pbody进行加深(淡红色区域),如此设计是为了进一步降低栅漏交叠面积(栅沟槽两侧的栅漏交叠区域),
但加深Pbody势必会影响器件导通能力,于是又在多晶硅氧化前,向沟槽底部注入磷离子,以形成N型区域(白色虚线),确保电流密度不会明显降低。
第三张方案如(c),可称之为T型栅+场板,
T型栅不必多说,指栅极上半部分较宽,下半部分较窄,
场板(Field plate)又是啥玩意?

以这张图为例,从材料的角度理解场板结构,非常清晰,
标注Field plate指向的区域,为金属,
标注Field Oxide指向的区域,为绝缘层,
再往下的白色区域,为N型半导体,
所谓场板结构,其实就是这样一个由金属/绝缘层/半导体构成的MIS结构,起到的效果便是使得电场分布更加均匀。
场板结构多数时候用在终端区域,但像第二张图(c)所示的结构,就是将场板结构应用在有源区,
看图(c),T型栅下半部分,那根细长的栅极,此即场板的金属,
细长栅极两侧的萤绿色绝缘层,此即场板的绝缘层,
再往外,蓝色的Nepi,此即场板的半导体,
换言之,相比常规的场板结构,这种设计将场板结构转了90°,以此在半导体内部实现场板结构调制电场分布的效果。
但这种结构的缺点在于,T型栅下半部分的细长栅极仍然与上半部分栅极相连,因此栅漏交叠面积仍然较大。
因此接下来的改进思路非常明显——将下半部分的细长栅极与上半部分的栅极分开,且将下半部分栅极与源极短接,以降低栅漏交叠面积。
各位可以想象一下那个结构,其实这就是后来的SGT-MOS,
因此,T型栅+场板结构 也可视作SGT-MOS(屏蔽栅MOS)出现的前奏 ,具体参考这篇文章。
大概2004年,Baliga等人提出这种改进方案,
栅沟槽中存在两部分原位掺杂多晶硅区域,上半部分作为器件的栅极,下半部分作为场板结构的“Metal层”,

如上图,下半部分多晶硅接地,极大减小栅漏交叠面积,降低CGD,
右边的栅电荷曲线表明,相比传统沟槽栅功率MOSFET结构,这种SG-MOS可以将QGD从27nC降至7nC,将QG从93nC降至40nC,
QG降低了57%,QGD降低了75%,
为什么前者的降幅小于后者?
这正是SG-MOS的缺点——下半部分多晶硅接地不可避免会导致输入电容Ciss增大,进而导致QGS和QG增大。
换言之,QGS的增幅,抵消了一部分QGD的降幅,使得QG的降幅低于QGD。
至于Ciss为什么会增大,看图中标注,
下半部分那里多了两种电容,CGP和CDP,这里的P是Plate(场板),
器件工作时,CGS和CGP并联,Ciss=CGS+CGP,Ciss因之增大,
而CDP亦会增大输出电容Coss,因其与CDS、CDG并联,那么Coss=CDP+CDS+CDG,
较大的Coss会降低高频DC-DC转换器的工作效率,尤其是在高压下(如超过100V)。
当然,必须提到采用SG-MOS的另一优势——外延层电场分布更加均匀,因此可通过更高浓度的外延层实现相同的击穿电压,进而降低器件导通电阻。
这种作用类似超结结构的工作机理。
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