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沟槽栅功率MOFET栅电荷优化方案

2026-03-06 15:30:41

这篇文章聊聊沟槽栅功率MOSFET降低栅电荷的各种方案,

如上,沟槽栅功率MOSFET基本结构,

N+P-body被近似矩形的沟槽隔开,槽中主要填充物为深蓝色的GateGate两侧及底部是荧绿色的栅介质(SiO2),

从开关特性的角度分析,这种结构的关键问题在于——栅沟槽底部完全裸露于外延层,栅漏交叠面积较大,导致CGD较高、QGD较大。

在高频开关应用中(尤其是工作频率超过1MHz的转换器),栅电荷较大的沟槽栅功率MOSFET面临诸多问题,包括:

1、栅极驱动产生的大功率损耗(驱动损耗),

2、需要的驱动电流较高,瞬态响应较差,

3、占空比存在较大限制,

4、需要大型栅极驱动器缓冲器。

5、高dV/dt效应,影响有效栅极电压,引发误导通等状况。

接下来,看看前人为降低栅电荷,鼓捣出了哪些好玩的东西。

如上,降低栅电荷的三种方案,

a)是TBOX结构,特点是Gate下方的栅氧化层做得更厚,且栅沟槽下方进行P型注入,

前者可以降低栅氧化层电容,后者则通过设置接源极的P区,将相当一部分栅漏电容转换成栅源电容,进一步降低CGD

这种方案的缺点在于工艺一致性,沟槽深度、底部氧化层厚度的波动都会影响CGD

为降低工艺波动对器件性能产生的影响,前人鼓捣出图(b)所示的结构,原文称之为W形栅极,

俺总觉得这种栅极更像是一颗牙齿,且称之为牙状栅极,

即,对沟槽底部的多晶硅进行局部氧化,形成厚氧化层,

如此形成的厚氧化层呈如下特征:中心区域厚度较大、边缘区域厚度较小,

相比CVD工艺形成TBOX,这种多晶硅氧化的方式工艺稳定性更佳,另外中心较厚、两侧较薄的结构,可减小沟槽深度变化对CGD的影响,

此外,对两侧的Pbody进行加深(淡红色区域),如此设计是为了进一步降低栅漏交叠面积(栅沟槽两侧的栅漏交叠区域),

但加深Pbody势必会影响器件导通能力,于是又在多晶硅氧化前,向沟槽底部注入磷离子,以形成N型区域(白色虚线),确保电流密度不会明显降低。

第三张方案如(c),可称之为T型栅+场板,

T型栅不必多说,指栅极上半部分较宽,下半部分较窄,

场板(Field plate)又是啥玩意?

以这张图为例,从材料的角度理解场板结构,非常清晰,

标注Field plate指向的区域,为金属,

标注Field Oxide指向的区域,为绝缘层,

再往下的白色区域,为N型半导体,

所谓场板结构,其实就是这样一个由金属/绝缘层/半导体构成的MIS结构,起到的效果便是使得电场分布更加均匀。

场板结构多数时候用在终端区域,但像第二张图(c)所示的结构,就是将场板结构应用在有源区,

看图(c),T型栅下半部分,那根细长的栅极,此即场板的金属,

细长栅极两侧的萤绿色绝缘层,此即场板的绝缘层,

再往外,蓝色的Nepi,此即场板的半导体,

换言之,相比常规的场板结构,这种设计将场板结构转了90°,以此在半导体内部实现场板结构调制电场分布的效果。

但这种结构的缺点在于,T型栅下半部分的细长栅极仍然与上半部分栅极相连,因此栅漏交叠面积仍然较大。

因此接下来的改进思路非常明显——将下半部分的细长栅极与上半部分的栅极分开,且将下半部分栅极与源极短接,以降低栅漏交叠面积。

各位可以想象一下那个结构,其实这就是后来的SGT-MOS

因此,T型栅+场板结构 也可视作SGT-MOS(屏蔽栅MOS)出现的前奏 ,具体参考这篇文章。

大概2004年,Baliga等人提出这种改进方案,

栅沟槽中存在两部分原位掺杂多晶硅区域,上半部分作为器件的栅极,下半部分作为场板结构的“Metal层”,

如上图,下半部分多晶硅接地,极大减小栅漏交叠面积,降低CGD

右边的栅电荷曲线表明,相比传统沟槽栅功率MOSFET结构,这种SG-MOS可以将QGD27nC降至7nC,将QG93nC降至40nC

QG降低了57%QGD降低了75%

为什么前者的降幅小于后者?

这正是SG-MOS的缺点——下半部分多晶硅接地不可避免会导致输入电容Ciss增大,进而导致QGSQG增大。

换言之,QGS的增幅,抵消了一部分QGD的降幅,使得QG的降幅低于QGD

至于Ciss为什么会增大,看图中标注,

下半部分那里多了两种电容,CGPCDP,这里的PPlate(场板),

器件工作时,CGSCGP并联,Ciss=CGS+CGPCiss因之增大,

CDP亦会增大输出电容Coss,因其与CDSCDG并联,那么Coss=CDP+CDS+CDG

较大的Coss会降低高频DC-DC转换器的工作效率,尤其是在高压下(如超过100V)。

当然,必须提到采用SG-MOS的另一优势——外延层电场分布更加均匀,因此可通过更高浓度的外延层实现相同的击穿电压,进而降低器件导通电阻。

这种作用类似超结结构的工作机理。

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作者: 深圳市亿伟世科技有限公司
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沟槽栅功率MOFET栅电荷优化方案
这篇文章聊聊沟槽栅功率MOSFET降低栅电荷的各种方案,如上,沟槽栅功率MOSFET基本结构,N+和P-body被近似矩形的沟槽隔开,槽中主要填充物为深蓝色的G
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