近日，半导体材料企业中科卓尔完成合计数亿元B轮融资，领投方为中银国际投资旗下成都交子中赢创新发展基金。同时，多家跟投机构亦在快速推进中。融资资金将用于半导体光刻用石英掩模基板的工艺研发、国产化产线建设及突破量产瓶颈。
资料显示，中科卓尔成立于2018年，由中科院光电所杨伟博导领衔组建，是一家精密光电及半导体智能装备研发商，专注于精密光学、半导体材料及智能装备等研发生产。公司突破了半导体掩模版基板精密抛光与镀膜关键技术，具备从工艺到核心设备的研发生产能力，并承担国家半导体空白掩模版产业链攻关项目，其主要产品覆盖130~250nm制程半导体/显示用空白掩模版（28~90nm产品正在积极储备研发）及相关核心设备。
空白掩模版作为光刻工艺中的图形转移载体，是芯片与显示屏用光刻机的核心材料，直接影响光刻精度及产品良率。目前，中国大陆能够小批量稳定供应第三方石英空白掩模版的企业仅4~5家，且关键制程设备仍依赖进口。中科卓尔致力于解决我国空白掩膜版“卡脖子”难题。
据介绍，技术层面，中科卓尔已实现三项自主突破，其中，超精密抛光工艺达到表面粗糙度优于0.2纳米（国际主流水平0.3纳米）；磁控溅射镀膜设备实现膜层均匀性±2%（国际标准±5%）；缺陷检测系统可识别0.3微米级瑕疵并关联生产数据。中科卓尔表示，目前国产空白掩模版在130~500nm制程已实现技术对标，但在100nm以内更先进节点仍需进一步突破。
商业化方面，中科卓尔的空白掩模版已通过路维光电、龙图光罩和国内多家自研光刻机等企业验证。目前中科卓尔成都中试线已完成工艺与产品验证，本轮融资将重点推进量产能力建设。
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